Broeikasgas NF3 neemt toe door plasmaschermen

De concentratie van het broeikasgas stikstoftrifluoride (NF3) in de atmosfeer is de laatste dertig jaar vertwintigvoudigd, zo blijkt uit metingen. Dit jaar komt ongeveer 4000 ton NF3 in de atmosfeer terecht, vergelijkbaar met 67 miljoen ton CO2. Onderzoekers uit Californië luiden de noodklok in Geophysical Research Letters.
NF3 wordt gebruikt in de productie van plasmaschermen, computerchips en, ironisch genoeg, zonnecellen. Het gas staat niet vermeld in het Kyoto-protocol, omdat men lang dacht dat het geen belangrijke rol speelt in de opwarming van de aarde. NF3 werd een paar jaar geleden populair als groen alternatief voor perfluorkoolstoffen (PFKs), een verzameling broeikasgassen die wel zijn opgenomen in het Kyoto-protocol en die gemakkelijk ontsnappen in productieprocessen.
Slechts 2% van al het NF3 dat men gebruikt om plasmaschermen te maken, eindigt in de atmosfeer. Maar NF3 is wel een heel sterk broeikasgas, 12.000 maal sterker dan CO2. Ook blijft het honderden jaren in de atmosfeer aanwezig.
[C2W]

Eén gedachte over “Broeikasgas NF3 neemt toe door plasmaschermen”

Geef een reactie

Het e-mailadres wordt niet gepubliceerd. Vereiste velden zijn gemarkeerd met *